Титанова ціль

Чистота
Чистота чистота, оскільки чистота цілі є великим впливом на продуктивність плівки ., однак, у практичних застосуванні, вимоги до чистоти для цілі не є однаковими .}, наприклад, з швидким розвитком мікроелектроніки, в той час як розміром силіконової мікросхеми був розроблений від 6 ", 8", а 12 -ти силіконова мікросхема була розроблена з 6 ", 8", а 12 ", в той час, як зменшився від 6" від 12 " 0 . 5UM до 0 . 25UM, 0,18UM або навіть 0,13UM, а попередня чистота цільової чистоти може відповідати 0,35 -тим.
Вміст домішок
Impurities in target solids and oxygen and water vapor in pores are the main pollution sources of deposited films. Targets for different purposes have different requirements for different impurity content. For example, pure aluminum and aluminum alloy targets used in the semiconductor industry have special requirements for alkali metal content and radioactive element content.
Щільність
Для того, щоб зменшити пористість у цільовому твердій частині та покращити продуктивність розпиленої плівки, ціль зазвичай необхідна для високої щільності ., щільність цілі не лише впливає на розпилення, але й впливає на електричні та оптичні властивості плівки . Вища щільність цільового матеріалу, кращої продуктивності фільму {}}}}} додавання дочірності. і міцність цілі робить ціль кращою здатною протистояти тепловому напрузі під час розпилення . щільності також є одним із ключових індексів продуктивності цільового матеріалу .